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Design for Manufacturability with Advanced Lithography

David Z. Pan (Taschenbuch, Englisch)

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Beschreibung
This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.
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Technische Daten


Erscheinungsdatum
23.08.2016
Sprache
Englisch
EAN
9783319373935
Herausgeber
Springer International Publishing
Sonderedition
Nein
Autor
David Z. Pan
Seitenanzahl
164
Auflage
Softcover reprint of the original 1st edition 2016
Einbandart
Taschenbuch
Schlagwörter
Design for Manufacturability, Design for Manufacturability and Yield, Electron beam lithography, Multiple patterning lithography, Nano-CMOS Design for Manufacturability, Triple Patterning Lithography
Thema-Inhalt
TJFC - Schaltkreise und Komponenten (Bauteile) UYF - Rechnerarchitektur und Logik-Entwurf TJF - Elektronik
Höhe
235 mm
Breite
15.5 cm

Transparenz & Sicherheit

Hersteller: Springer, Europaplatz 3, Heidelberg, Deutschland, 69115, ProductSafety@springernature.com, Springer Nature Customer Service Center GmbH

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