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Evolution of Thin Film Morphology
Matthew Pelliccione, Toh-Ming Lu (Broschiert, Englisch)
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Beschreibung
Thin?lmdepositionisthemostubiquitousandcriticaloftheprocessesusedto manufacture high-tech devices such as microprocessors, memories, solar cells, microelectromechanicalsystems(MEMS),lasers,solid-statelighting,andp- tovoltaics. The morphology and microstructure of thin ?lms directly controls their optical, magnetic, and electrical properties, which are often signi?cantly di?erent from bulk material… properties. Precise control of morphology and microstructure during thin ?lm growth is paramount to producing the - sired ?lm quality for speci?c applications. To date, many thin ?lm deposition techniques have been employed for manufacturing ?lms, including thermal evaporation,sputterdeposition,chemicalvapordeposition,laserablation,and electrochemical deposition. The growth of ?lms using these techniques often occurs under highly n- equilibrium conditions (sometimes referred to as far-from-equilibrium), which leads to a rough surface morphology and a complex temporal evolution. As atoms are deposited on a surface, atoms do not arrive at the surface at the same time uniformly across the surface. This random ?uctuation, or noise, which is inherent to the deposition process, may create surface growth front roughness. The noise competes with surface smoothing processes, such as surface di?usion, to form a rough morphology if the experiment is performed at a su?ciently low temperature and / or at a high growth rate. In addition, growth front roughness can also be enhanced by growth processes such as geometrical shadowing. Due to the nature of the deposition process, atoms approaching the surface do not always approach in parallel; very often atoms arrive at the surface with an angular distribution. Dieses Produkt haben wir gerade leider nicht auf Lager.
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Technische Daten
Erscheinungsdatum
19.11.2010
Sprache
Englisch
EAN
9781441925800
Herausgeber
Springer US
Serien- oder Bandtitel
Springer Series in Materials Science
Sonderedition
Nein
Autor
Matthew Pelliccione, Toh-Ming Lu
Seitenanzahl
206
Einbandart
Broschiert
Buch Untertitel
Modeling and Simulations
Schlagwörter
Helium-Atom-Streuung, REM, aggregation models, coating, continuum equations, modeling, morphology, plasma etching, programming, surfaces, thin film, tribology
Thema-Inhalt
TGM - Materialwissenschaft
TGMM - Technische Anwendung von elektronischen, magnetischen, optischen Materialien
TGMS - Technische Anwendung von Oberflächenbeschichtungen und -filmen
TGBF - Tribologie (Reibung und Schmierung)
Höhe
235 mm
Breite
15.5 cm
Hersteller: Springer, Europaplatz 3, Heidelberg, Deutschland, 69115, ProductSafety@springernature.com, Springer Nature Customer Service Center GmbH
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