Bis zu 50 % günstiger als neu
3 Jahre rebuy Garantie
Professionelles Refurbishment
ElektronikMedien
Tipps & News
AppleAlle anzeigen
TabletsAlle anzeigen
HandyAlle anzeigen
Fairphone
AppleAlle anzeigen
iPhone Air Generation
GoogleAlle anzeigen
Pixel Fold
HonorAlle anzeigen
HuaweiAlle anzeigen
Honor Serie
NothingAlle anzeigen
OnePlusAlle anzeigen
OnePlus 11 GenerationOnePlus 12 Generation
SamsungAlle anzeigen
Galaxy XcoverWeitere Modelle
SonyAlle anzeigen
Weitere Modelle
XiaomiAlle anzeigen
Weitere Modelle
Tablets & eBook ReaderAlle anzeigen
Google
AppleAlle anzeigen
HuaweiAlle anzeigen
MatePad Pro Serie
MicrosoftAlle anzeigen
XiaomiAlle anzeigen
Kameras & ZubehörAlle anzeigen
ObjektiveAlle anzeigen
Samyang
System & SpiegelreflexAlle anzeigen
CanonAlle anzeigen
FujifilmAlle anzeigen
OlympusAlle anzeigen
PanasonicAlle anzeigen
SonyAlle anzeigen
WearablesAlle anzeigen
Fitness TrackerAlle anzeigen
SmartwatchesAlle anzeigen
Xiaomi
Konsolen & ZubehörAlle anzeigen
Lenovo Legion GoMSI Claw
NintendoAlle anzeigen
Nintendo Switch Lite
PlayStationAlle anzeigen
XboxAlle anzeigen
Audio & HiFiAlle anzeigen
KopfhörerAlle anzeigen
FairphoneGoogle
LautsprecherAlle anzeigen
GoogleYamahatonies
iPodAlle anzeigen

Handgeprüfte Gebrauchtware

Bis zu 50 % günstiger als neu

Der Umwelt zuliebe

BBr3 Boron Diffusion Process for p+-Emitter Formation of n-Type Silicon Solar Cells

Michael Kessler (Gebundene Ausgabe, Englisch)

Keine Bewertungen vorhanden
Optischer Zustand
Beschreibung
The liquid-source BBr3 technology to diffuse a boron p+-emitter is the state-of-the-art laboratory technology for p+-emitter formation and is a feature of the current world record silicon solar cell with n=25.0%. Nevertheless the BBr3 boron diffusion process for p+-emitter formation is little spread in industrial cell manufacturing due to technological challenges. A detailed experimental study shows the implications of the formation of an undesirable boron-rich layer (BRL) during the boron diffusion process. The passivation of boron emitter surfaces is investigated experimentally and using numerical simulations. Based on an industrial manufacturing scheme an n-type solar cell with boron emitter and in-line evaporated aluminum grid is developed and reaches a conversion efficiency of n=19.6%. The results of this work can help to accelerate the industrial implementation of boron p+-emitter for n-type silicon solar cells.
Dieses Produkt haben wir gerade leider nicht auf Lager.
ab 3,09 €
Derzeit nicht verfügbar
Derzeit nicht verfügbar

Handgeprüfte Gebrauchtware

Bis zu 50 % günstiger als neu

Der Umwelt zuliebe

Technische Daten


Erscheinungsdatum
25.09.2013
Sprache
Englisch
EAN
9783944586182
Herausgeber
TEWISS
Sonderedition
Nein
Autor
Michael Kessler
Seitenanzahl
147
Auflage
1
Einbandart
Gebundene Ausgabe
Schlagwörter
boron emitter, boron-rich layer (BRL), BBR3 boron diffusion
Thema-Inhalt
T - Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse
Höhe
210 mm
Breite
14 cm
-.-
Leider noch keine Bewertungen
Leider noch keine Bewertungen
Schreib die erste Bewertung für dieses Produkt!
Wenn du eine Bewertung für dieses Produkt schreibst, hilfst du allen Kund:innen, die noch überlegen, ob sie das Produkt kaufen wollen. Vielen Dank, dass du mitmachst!