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BBr3 Boron Diffusion Process for p+-Emitter Formation of n-Type Silicon Solar Cells

Michael Kessler (Gebundene Ausgabe, Englisch)

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Beschreibung
The liquid-source BBr3 technology to diffuse a boron p+-emitter is the state-of-the-art laboratory technology for p+-emitter formation and is a feature of the current world record silicon solar cell with n=25.0%. Nevertheless the BBr3 boron diffusion process for p+-emitter formation is little spread in industrial cell manufacturing due to technological challenges. A detailed experimental study shows the implications of the formation of an undesirable boron-rich layer (BRL) during the boron diffusion process. The passivation of boron emitter surfaces is investigated experimentally and using numerical simulations. Based on an industrial manufacturing scheme an n-type solar cell with boron emitter and in-line evaporated aluminum grid is developed and reaches a conversion efficiency of n=19.6%. The results of this work can help to accelerate the industrial implementation of boron p+-emitter for n-type silicon solar cells.
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Technische Daten


Erscheinungsdatum
25.09.2013
Sprache
Englisch
EAN
9783944586182
Herausgeber
TEWISS
Sonderedition
Nein
Autor
Michael Kessler
Seitenanzahl
147
Auflage
1
Einbandart
Gebundene Ausgabe
Schlagwörter
boron emitter, boron-rich layer (BRL), BBR3 boron diffusion
Thema-Inhalt
T - Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse
Höhe
210 mm
Breite
14 cm

Warnhinweise und Sicherheitsinformationen

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