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Technology Evolution for Silicon Nano-Electronics

Seiichi Miyazaki (Broschiert, Englisch)

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Beschreibung
Volume is indexed by Thomson Reuters CPCI-S (WoS). Silicon ultra-large scale integrated circuits (ULSIs) are now faced with various physical limits to further scaling. Therefore, it is very important to establish the fundamental science and technology required to produce nano-scale complementary metal-oxide-semiconductor devices (Nano-CMOS) having high performance, new functionalities and larger-scale integration. The scope of this book covers: - Nano-scale complementary metal-oxide-semiconductor devices (Nano-CMOS), - Novel functional devices, materials, and nanoprocessing technologies, - Nano-bio physics and technologies for future nano devices, - Variability control technologies and Signal integrity. This makes it a very useful handbook on the subject.
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Technische Daten


Erscheinungsdatum
14.05.2011
Sprache
Englisch
EAN
9783037850510
Herausgeber
Trans Tech
Serien- oder Bandtitel
Key Engineering Materials
Sonderedition
Nein
Autor
Seiichi Miyazaki
Seitenanzahl
246
Einbandart
Broschiert
Bandzählung
470
Schlagwörter
CMOS, Direct Silicon Bonding, Ge-On-Insulator, Germanium, Heterointerface Trap, Micro Beam, MOSFET, Oxide Out Diffusion Annealing, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), Random, Resistive Memory, Sensitivity, Silicon, Single Dopant, SOI, Strain, TEM
Thema-Inhalt
TGM - Materialwissenschaft
Höhe
240 mm
Breite
17 cm

Warnhinweise und Sicherheitsinformationen

Informationen nach EU Data Act

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