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Nanofabrication Revolution: Atomic Layer Deposition and Etching at the Nanoscale
Johnson (Broschiert, Englisch)
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Beschreibung
"Nanofabrication Revolution: Atomic Layer Deposition and Etching at the Nanoscale" explores the cutting-edge world of building things incredibly small. It delves into two transformative techniques: Atomic Layer Deposition (ALD) and Atomic Layer Etching (ALE). Imagine building structures atom by atom, with incredible precision and control. That's the power of ALD and ALE, allowing scientists and… engineers to create revolutionary materials and devices at the nanoscale, a billionth of a meter! The book dives into the unique processes behind these techniques, explaining how they use precise chemical reactions to meticulously add or remove material one atomic layer at a time. You'll learn about the vast applications of this technology, from creating ultra-thin films for transistors in next-generation computers to crafting intricate features for solar cells and medical implants. "Nanofabrication Revolution" unveils the exciting potential of ALD and ALE, ushering in a new era of miniaturization and innovation that will shape the future of technology. 28,10 €
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Technische Daten
Erscheinungsdatum
08.06.2024
Sprache
Englisch
EAN
9783384254269
Herausgeber
tredition
Sonderedition
Nein
Autor
Johnson
Seitenanzahl
94
Einbandart
Broschiert
Einbandart Details
Klebebindung
Schlagwörter
Atomic Layer Manufacturing (ALM), Nanolithography, Patterning Techniques, Material Engineering, Semiconductor Manufacturing, Quantum Technologies, Nanodevices, Microelectromechanical Systems, Chemical Vapor Deposition (CVD), Scalability
Thema-Inhalt
TBD - Konstruktion, Entwurf
TBN - Nanotechnologie
TBR - Angepasste Technologie
TBM - Instrumente und Instrumentierung
Höhe
234 mm
Breite
15.5 cm
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