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Achieving Crystalline Perfection: Optimizing PVD for Superior Thin Film Quality
Richard (Broschiert, Englisch)
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Beschreibung
While diamond is often regarded as the ultimate semiconductor due to its superior physical and chemical properties relative to the other candidates, the challenge remains to achieve large diameter films through cost-efficient methods. Chemical vapor deposition (CVD) techniques have enabled the growth of diamond films up to 3 inches (76.2 mm) via heteroepitaxial processes.1 However, the dislocation… densities are of the order of 107-109 cm-2. In contrast, high pressure and high temperature (HPHT) techniques have allowed diamond substrates of higher purity and lower defect density to be produced relative to those achieved via CVD, though, at this writing, they are limited to a maximum of 10x10 mm2 in size.1 AlN crystal growth faces challenges due to its extremely high melting point of 3200 ℃,2 making direct melt growth unfeasible. Use of alternative growth techniques, such as physical vapor transport (PVT)3,4 and hydride/halide vapor phase epitaxy (HVPE),5 have allowed the growth of bulk AlN materials up to 2.5 inches (63.5 mm) in size. Dieses Produkt haben wir gerade leider nicht auf Lager.
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Technische Daten
Erscheinungsdatum
14.06.2024
Sprache
Englisch
EAN
9783384260901
Herausgeber
tredition
Sonderedition
Nein
Autor
Richard
Seitenanzahl
112
Einbandart
Broschiert
Einbandart Details
Klebebindung
Schlagwörter
Physical Vapor Deposition (PVD), Thin film, Crystalline structure, Epitaxial growth, Surface morphology, Nucleation, Defect control, Film uniformity, Sputtering, Evaporation
Thema-Inhalt
ATF - Film, Kino
ATM - Film, Fernsehen, Radio und darstellende Künste: Genres
ATZ - Film, Fernsehen, Radio und darstellende Kunst: Begleitende Werke
Höhe
234 mm
Breite
15.5 cm
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