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Beschreibung
Zum Werk Diese praxisnahe Einführung stellt das moderne Patent- und Gebrauchsmusterrecht, auch unter dem Gesichtspunkt des europarechtlichen und internationalen Schutzes, nebst den Bezügen zum Lizenzvertrags- und Kartellrecht dar. Im Anhang sind u.a. Muster deutscher und europäischer Patentschriften nebst Merkmalsanalyse dargestellt. Vorteile auf einen Blick mit dem EU-Abkommen zum Einheitlichen Patentgericht mit internationalem Rechtsschutz mit der Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des Gewerblichen Rechtsschutzes Zur Neuauflage Schwerpunkt der Neuauflage ist die Einrichtung des einheitlichen Patentgerichts für die Mitgliedstaaten der Europäischen Union (EPG/UPC). Darüber hinaus wird das Werk insgesamt auf den aktuellen Stand in Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur gebracht. Zielgruppe Für Rechtsreferendarinnen und -referendare, Rechtsanwaltschaft, Patentanwaltschaft (in der Ausbildung), Studierende (Rechtswissenschaft und technische Berufe), Richterschaft, Erfinderinnen und Erfinder, Rechtsabteilungen von Wirtschaftsunternehmen.
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Technische Daten


Erscheinungsdatum
08.08.2025
Sprache
Deutsch
EAN
9783406818738
Herausgeber
C.H.Beck
Serien- oder Bandtitel
NJW-Praxis
Sonderedition
Nein
Autor
Christian Osterrieth
Seitenanzahl
338
Auflage
7
Einbandart
Broschiert

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Hersteller: C.H. Beck, Wilhelmstraße 9, München, Deutschland, 80801, produktsicherheit@beck.de, Verlag C.H.Beck GmbH & Co. KG

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