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Principles of Chemical Vapor Deposition
D.M. Dobkin, M.K. Zuraw (Taschenbuch, Englisch)
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Beschreibung
Principles of Chemical Vapor Deposition provides a simple introduction to heat and mass transfer, surface and gas phase chemistry, and plasma discharge characteristics. In addition, the book includes discussions of practical films and reactors to help in the development of better processes and equipment. This book will assist workers new to chemical vapor deposition (CVD) to understand CVD… reactors and processes and to comprehend and exploit the literature in the field. The book reviews several disparate fields with which many researchers may have only a passing acquaintance, such as heat and mass transfer, discharge physics, and surface chemistry, focusing on key issues relevant to CVD. The book also examines examples of realistic industrial reactors and processes with simplified analysis to demonstrate how to apply the principles to practical situations. The book does not attempt to exhaustively survey the literature or to intimidate the reader with irrelevant mathematical apparatus. This book is as simple as possible while still retaining the essential physics and chemistry. The book is generously illustrated to assist the reader in forming the mental images which are the basis of understanding. 246,09 €
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Der Umwelt zuliebe
Technische Daten
Erscheinungsdatum
01.12.2010
Sprache
Englisch
EAN
9789048162772
Herausgeber
Springer Netherland
Sonderedition
Nein
Autor
D.M. Dobkin, M.K. Zuraw
Seitenanzahl
273
Einbandart
Taschenbuch
Schlagwörter
Natur, Technologie, chemistry, coating, development, heat transfer, manufacturing, metal, physics, pressure, transport, vapor
Thema-Inhalt
TGMT - Werkstoffprüfung
TDC - Industrielle Chemie und Chemietechnologie
TGP - Fertigungstechnik und Ingenieurwesen
PHM - Atom- und Molekularphysik
Höhe
240 mm
Breite
16 cm
Transparenz & Sicherheit
Hersteller: Springer, Europaplatz 3, Heidelberg, Deutschland, 69115, ProductSafety@springernature.com, Springer Nature Customer Service Center GmbH
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